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목록상향식 패턴 제조방법, 이에 의해 제조된 복합구조체 및 복합구조체를 포함하는 반도체 소자
작성자
관리자
조회수
27
등록일
2024-04-11
지식재산권 상세정보
| 과제 | 자외선 렌즈용 반사방지 코팅 원천기술 개발 | ||||
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| 지식재산권명 | 상향식 패턴 제조방법, 이에 의해 제조된 복합구조체 및 복합구조체를 포함하는 반도체 소자 | ||||
| 성과고유번호 | PTR-2021-00212100318 | 성과발생연도 | 2021 | 국내외구분 | 국내 |
| 출원/등록번호 | 1020210090958 | 출원/등록일자 | 2021-07-12 | 출원/등록기관 | 한국화학연구원 |
| 출원/등록기관 사업자등록번호 | 특허유형 | 특허 | 출원/등록구분 | 출원 | |
| 기여율 | 33.33 % | 공개여부 | 공개 | ||
| 증빙자료 | |||||
| 최초등록 | 관리자, 2024-04-11 PM 02시 52분 | 최종수정 | 관리자, 2024-10-24 PM 01시 37분 | ||
지식재산권 원문