관리자
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2024-04-11
| 과제 | 미래 소자구현을 위한 3세대 HBP-ALE(고비등점 원자층식각) 원천기술 및 표면반응 메커니즘 연구 | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| 지식재산권명 | 식각 처리 장치 및 식각 처리 방법 | ||||
| 성과고유번호 | PTR-2021-00212095162 | 성과발생연도 | 2021 | 국내외구분 | 국외 |
| 출원/등록번호 | 1020210021020 | 출원/등록일자 | 2021-02-17 | 출원/등록기관 | 대전대학교 산학협력단,성균관대학교 산학협력단 |
| 출원/등록기관 사업자등록번호 | 특허유형 | 특허 | 출원/등록구분 | 출원 | |
| 기여율 | 100.0 % | 공개여부 | 공개 | ||
| 증빙자료 | |||||
| 최초등록 | 관리자, 2024-04-11 PM 02시 53분 | 최종수정 | 관리자, 2024-10-24 PM 01시 37분 | ||