지식재산권 상세
목록플래쉬 처리방법을 이용한 유연기판에 코팅된 산화물 반도체 박막의 제조방법
작성자
관리자
조회수
26
등록일
2024-04-11
지식재산권 상세정보
| 과제 | 용액공정 기반 ITO(indium-tin-oxide) 유연소자 개발과 줄기세포 분화에 응용 | ||||
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| 지식재산권명 | 플래쉬 처리방법을 이용한 유연기판에 코팅된 산화물 반도체 박막의 제조방법 | ||||
| 성과고유번호 | app_2021_0000034114 | 성과발생연도 | 2021 | 국내외구분 | 국내 |
| 출원/등록번호 | 1020210025351 | 출원/등록일자 | 2021-02-25 | 출원/등록기관 | 한남대학교 산학협력단 |
| 출원/등록기관 사업자등록번호 | 특허유형 | 특허 | 출원/등록구분 | 출원 | |
| 기여율 | 25.0 % | 공개여부 | 공개 | ||
| 증빙자료 | |||||
| 최초등록 | 관리자, 2024-04-11 PM 03시 01분 | 최종수정 | 관리자, 2024-10-24 PM 01시 40분 | ||
지식재산권 원문