고투과도 CHA-DDR 유형 이종 제올라이트 분리막 제작 방법
지식재산권 상세정보
| 과제 |
정밀화학산업 반응-분리·정제 에너지절감 공정 기술 개발 및 실증 |
| 지식재산권명 |
고투과도 CHA-DDR 유형 이종 제올라이트 분리막 제작 방법 |
| 성과고유번호 |
app_2021_0000025698 |
성과발생연도 |
2021 |
국내외구분 |
국내 |
| 출원/등록번호 |
1020210111623 |
출원/등록일자 |
2021-08-24 |
출원/등록기관 |
고려대학교 산학협력단 |
| 출원/등록기관 사업자등록번호 |
|
특허유형 |
특허 |
출원/등록구분 |
출원 |
| 기여율 |
50.0 % |
공개여부 |
공개 |
| 증빙자료 |
|
| 최초등록 |
관리자,
2024-04-11 PM 03시 08분
|
최종수정 |
관리자,
2024-10-24 PM 01시 42분
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지식재산권 상세정보
| 과제 |
정밀화학산업 반응-분리·정제 에너지절감 공정 기술 개발 및 실증 |
| 지식재산권명 |
고투과도 CHA-DDR 유형 이종 제올라이트 분리막 제작 방법 |
| 성과고유번호 |
app_2021_0000025698 |
| 성과발생연도 |
2021 |
| 국내외구분 |
국내 |
| 출원/등록번호 |
1020210111623 |
| 출원/등록일자 |
2021-08-24 |
| 출원/등록기관 |
고려대학교 산학협력단 |
| 출원/등록기관 사업자등록번호 |
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| 특허유형 |
특허 |
| 출원/등록구분 |
출원 |
| 기여율 |
50.0 % |
| 공개여부 |
공개 |
| 증빙자료 |
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| 최초등록 |
관리자,
2024-04-11 PM 03시 08분
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| 최종수정 |
관리자,
2024-10-24 PM 01시 42분
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