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반도체소자 웨이퍼의 두께 80마이크로미터 이하급 고효율 박형화(thinning)를 위한 백그라인딩 공정용 웨이퍼 전면 보호코팅소재 및 공정개발을 위한 선행연구

작성자

관리자

조회수

54

등록일

2024-05-21

사업 정보
내역사업 2020년도 산연 Collabo R&D사업(예비연구) 시행계획 공고
과제 기본정보
과제명 반도체소자 웨이퍼의 두께 80마이크로미터 이하급 고효율 박형화(thinning)를 위한 백그라인딩 공정용 웨이퍼 전면 보호코팅소재 및 공정개발을 위한 선행연구
과제고유번호 1425143854
부처명 중소벤처기업부
시행계획 내 사업명
시행계획 내 사업유형 예산출처지역 대전광역시 사업수행지역 대전광역시
계속/신규 과제구분 신규과제
과제수행연도 2020 총연구기간 2020-06-29 ~ 2021-02-28 당해연도 연구기간 2020-06-29 ~ 2021-02-28
요약 정보
연구목표 - 최종목표인 80마이크로미터 두께이하 고효율 웨이퍼 박형화(thinning)를 위한 웨이퍼 백그라인딩 공정을 위한 신개념 액상출발 웨이퍼 전면 패시베이션(보호) 소재와 공정기술 개발을 위한 선행연구- Bare 웨이퍼 대상 박형화(thinning)를 위한 액상출발 백그라인딩 코팅 소재 선행 적용, 공정 호환성 확보 및 웨이퍼 백그라인딩 시행 후 평가- 목표...
연구내용 본 과제에서 개발하고자 하는 소재는 액상 타입으로 웨이퍼 앞면에 도포되었을 때 주요 성능지표를 코팅균일도,잔유물, 웨이퍼두께, 웨이퍼 두께 균일도로 정하고 각각의 목표를 달성하려고 함. - 코팅균일도 : 5% 이내 - 이형 후 잔유물 : 5% 이내 - 웨이퍼 두께 : 160 마이크로미터 이하 - 웨이퍼 두께 균일도 : 5% 이내
기대효과 (기술성) 코팅균일도 5%이내 / 이형 후 잔유물: 5%이내 / 웨이퍼두께 :160 마이크로미터 이하 / 웨이퍼 두께 균일도 : 5% 이내 로 수행하여 목표로 하는 고집적 IC, 고집적 PKG 분야 웨이퍼 가능케 함(시장성) 현재 일본 등 수입에 의존하고 있는 웨이퍼 백그라인딩용 전면 보호 필름 시장에서 국내 기술과 제품으로 대체 가능함을 기대할 수 있...
키워드 웨이퍼 박형화,웨이퍼 백그라인딩,백그라인딩 테입,패시베이션,봉지
위탁/공동여부 정보
단독연구 기업 대학 국공립(연)/출연(연) 외국연구기관 기타
기술 정보
연구개발단계 개발연구 산업기술분류
미래유망신기술(6T) NT(나노기술) 기술수명주기
연구수행주체 과학기술표준분류 인공물 > 재료 > 기타재료 > 달리 분류되지 않는 재료
주력산업분류 적용분야 기타 산업
중점과학기술분류 과제유형
과제수행기관(업) 정보
과제수행기관(업) 정보 과제수행기관(업)명 (주)나노인 사업자등록번호
연구책임자 소속기관명 (주)나노인 사업자등록번호
최종학위 박사 최종학력전공 공학
사업비
국비 49,700,000 지방비(현금+현물) 0
비고