| 연구목표 |
원통형(길이:2m, 지름:0.6m) 진공챔버 내에서 생성된 저충돌 저온 플라즈마의 비맥스웰 전자속도분포에 관한 포괄적인 이해를 증진하기 위해 전자 표류운동을 유도하여 전자속도분포의 왜도(skewness: 3rd moment)와 첨도(kurtosis: 4th moment)를 측정, 제어 및 해석할 수 있는 기술을 개발하고, 이를 기반으로 비맥스웰 전자가 플라... |
| 연구내용 |
비맥스웰 전자속도분포의 왜도와 첨도 제어 및 측정 기술 확보와 물리연구 수행 기반 구축을 목표로 다음의 연구내용을 수행한다.[측정기법 1차년도] (1) 기존의 랑뮤어프로브 해석 기법을 확장하여 왜도와 첨도를 포함한 비맥스웰 전자에 적용 가능한 데이터 해석 기법 기반 확보, (2) 타진단계(톰슨산란, 충돌방사모델 기반 광방출분광법)와의 교차 검증 기반 확보[... |
| 기대효과 |
[기술적 기대효과] 전자 속도분포 측정 및 제어 기술을 활용한 플라즈마 응용 분야의 새로운 도약 견인: (1) 차세대 반도체 공정기술로 인지되는 전자를 이용한 원자층 식각 기술에 전자 속도분포 측정·제어 기술의 높은 활용도가 기대된다. (2) 인공위성, 우주탐사선 등에 탑재된 홀 추력기의 성능을 저해하는 요인인 여러 플라즈마 불안정성은 전자 속도분포와 밀접... |
| 키워드 |
저온플라즈마,비맥스웰리안,전자속도분포,왜도,첨도,grad-B 표류운동,curvature 표류운동,제어 |