| 연구목표 |
ㅇ 시스템 반도체 및 디스플레이 제조 플라즈마 장비에 요구되는 소스, 공정, 진단 및 환경기술 등 원천 기술개발ㅇ 플라즈마 제조장비 - 비균일도 3%이내 200m급 소스장비 및 제어기술 - 산화막 두께를 1%이내 오차로 예측하고, 3% 이내로 제어하는 제조장비기술 - 2종 이상 대면부품에 대한 수명/PM예측ㅇ 플라즈마 환경장비 - 제... |
| 연구내용 |
ㅇ 플라즈마 제조장비 - 반도체-디스플레이 제조 공정용 고균일도 실현 플라즈마 소스 장비기술 개발 - 고신뢰성 플라즈마 정보 모니터링 및 공정 가상계측 시스템 구축 - 플라즈마 대면부품 내플라즈마성 가속평가 플랫폼 구축ㅇ 플라즈마 환경장비 - 안전을 위한 유해물질 제거기술 – PPS 고도화 - 대용량 유해물질의 고효... |
| 기대효과 |
□ 결과 활용에 의한 파급효과 ㅇ 획득한 기술지식의 활용 관점 -산업체 현안지원, 미래 원천기술의 조기확보 (공정예측/장비), 장비시장 선진입 (환경안전장비) ㅇ 기술이전·사업화·기술지원 관점 -핵심원천기술과 관련특허 선점, 미래 시장수요에 적극 대응 -중기 장비시장을 겨냥한 환경안전장비 분야 조기 사업화 추진 ㅇ 연구결과물 활용 관점(SW... |
| 키워드 |
반도체-디스플레이 플라즈마 장비, 플라즈마 핵심공정, 플라즈마 공정 디지털화, 플라즈마 환경기술 |